其实在座的大部分公司还是有一些擅长领域的,如果可以把这股技术力量整合在一起,再投入海量资金,即便没有陈涵的微观干涉能力,也可能加快国产光刻机诞生速度。
但以前很难有人能够把大家组织起来。
毕竟很多公司又不是国企,都有自己的利益诉求。
好在陈涵算是一个局外人,就算真把光刻机研发成功了,现在也承诺不会亲自下场和大家竞争,那事情就可以谈了。
“来我们这里工作的科学家全部可以优先享受智慧药的待遇,研发速度会更快,也许今年年底就能拿出一些成果!”陆齐继续说道。
说今年拿出成果,陆齐心中也没底,但这是陈涵要求的,他也只能在大家面前吹吹牛。
陈涵确实很有信心,要知道在这次开会之前,他也对整个光刻机行业进行过了解。
目前国外领先就领先在镜片精度,还有一些特殊材料以及软件工程上。
可以说他具有很大的优势。
国内也能进口到一些工艺很落后的产品,比如28nm光刻机。
比起最先进的光刻机大概落后了3-5代。
从28nm到14nm,再然后就是10nm,7nm,5nm等等。
光刻机的发展都是有迹可循的,摸清了28nm制造,也能够加快速度更新换代慢慢突破到更小的尺度。
陈涵现在最想干的就是拆掉一台光刻机,基本原理科学家都明白,就是一些难点还不能解决。
目前卡住国产光刻机的几个难点其中之一就是精度问题。
国外的公司曾经非常傲慢的宣称,即便把光刻机所有零件都给你们,你们也无法完成光刻机的组装!
精度问题的第一道难关就是光学系统。
光刻机的曝光光学系统,由数十块锅底大的镜片串联组成,其光学零件精度控制在几个纳米以内,陈涵相信它的微观干涉能力,应该可以解决这个难题。
第二道难关是光刻机的激光光源,光刻用准分子激光器光源需要窄线宽、大能量和高脉冲频率,这些参数互相矛盾,研制难度极大。
而且拆开光刻机,零件都会损坏,国内的仿制基本都是从拆仪器开始的,光刻机价格上亿也不是不可以拆,只不过现在拆了内部就被破坏。
纳米层面一点点改变,后续研究就无法进行下去了。
目前能够攻克这个系统的只有脚盆国的一家科技公司,而其他公司都被艾斯麦尔公司收购了。
激光光源再复杂,其基本构造和材料如果通过微观观察,陈涵也能够分析出具体是怎么回事,应该也可以复制。
艾斯麦尔公司的防拆手段对陈涵没有用!
他可以微观干涉记下构造,再拆开以后制造零件组装。
还剩下最后一个难点,全世界只有艾斯麦尔公司掌握,那就是光刻机工件台。
这个工作台只有2-3平方厘米。
但为了将芯片设计图刻在芯片上,需要控制整个工作台在高速运动的情况下达到2nm的运动精度。
这个难点陈涵也没... -->>
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